INAUGURAN EXPO «ENTRE LA LUZ Y LA OSCURIDAD»

Inspirados en los grandes maestros, como Caravaggio, Rembrandt y Artemisia Gentileschi, estudiantes de la Facultad de Diseño y Artes Visuales de la Universidad Autónoma de Sinaloa, encabezados por la colectiva La Cuarta Luz, expusieron “Entre la luz y la oscuridad” en el Museo de Historia Regional de Sinaloa.

Una nueva generación de artistas reinterpreta el dilema clásico entre la luz y la penumbra en la creación de sus obras, y lo hacen desde una perspectiva totalmente contemporánea. Ellos consideran que es “una exploración de esa frontera difusa donde los opuestos se necesitan mutuamente para adquirir sentido”.

Para dar fe de la importancia de la muestra, se dieron cita en el Museo las autoridades de las dependencias colaborantes. Por el Instituto Municipal de Cultura Culiacán, el director general, Adolfo Plata Guzmán; por la Facultad, su director, Pedro Cervantes; por supuesto, la colectiva: Cyntahia Esperanza Niebla Rivera, José Guadalupe Ramírez Ibarra, Paulette López Meza e Iris Alexa Hernández Gutiérrez.

Plata Guzmán celebró “este ejercicio profundo de sensibilidad, técnica y reflexión” en el diálogo entre luz y sombra: “Es precisamente en esa dualidad donde encontramos una metáfora de la vida misma: equilibrio, tensión y belleza”.

Por su parte, Pedro Cervantes, destacó que la muestra se realizó enteramente por los alumnos que, apenas en segundo año, se animaron a lidiar con temas avanzados en su formación, como la curaduría, museografía y gestión cultural. Un paso importante en su experiencia profesional.

La exposición “Entre la luz y la oscuridad” en la que participan veintitrés jóvenes artistas con pinturas, fotografías digitales y grabado, permanecerá abierta al público del 5 al 18 de junio en el Museo de Historia Regional de Sinaloa, al interior del Centro Cívico Constitución, en horario de 9:00 a 17:00 horas.